光氧催化設(shè)備的日常維護非常重要

 

光催化裝置效率高，操作方便，是許多工業(yè)廢氣凈化的主要設(shè)備。但是，很多買家反映，使用一段時間后，工作效率開始下降。造成這種情況的主要原因是維護不及時，尤其是設(shè)備內(nèi)部的灰塵。

 

1.使用過濾材料一段時間后，由于各種影響，灰塵會積聚在過濾袋的表面。這一層稱為主層，成為過濾材料的主過濾層。

 

2.粉塵堆積在濾料表面，光氧化設(shè)備的效率和阻力相應(yīng)增加。當濾料兩側(cè)壓差較***時，一些塵粒會粘附在過去的濾料上，除塵器的效率會降低。除塵器阻力過***會******降低除塵系統(tǒng)的風量。

 

當光氧化催化劑的電阻達到一定值時，應(yīng)及時去除。清洗時不應(yīng)損傷初始層，以免降低效率。由于粉末反復附著在濾袋的外表面，粉末層不斷增厚，電阻值也相應(yīng)增加。脈沖閥打開時，脈沖閥的膜片發(fā)出指令打開高壓氣囊內(nèi)的壓縮空氣，無塵工作停止。

 

3.如果光氧化催化劑沒有及時清洗，不僅會增加設(shè)備的工作壓力，還會降低效率，甚至導致故障。因此，只有及時正確地清洗設(shè)備，才能保證設(shè)備的使用壽命。